勻膠勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設(shè)備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉(zhuǎn)時所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。
 

　　按自動化程度可分為：
 

　　a)自動勻膠設(shè)備；b)半自動勻膠設(shè)備。
 

　　2按有無烘干方式分為：
 

　　a)帶烘干裝置的勻膠設(shè)備；b)不帶烘干裝置的勻膠設(shè)備。
 

　　3按加工基片幾何形狀可分為：
 

　　a)圓片勻膠設(shè)備；b)方片勻膠設(shè)備。
 

　　勻膠勻膠機的工藝特點要求硅片在托盤真空吸力的作用下隨主軸一起高速旋轉(zhuǎn)，因此勻膠托盤的幾何參數(shù)將對被吸附的硅片形變產(chǎn)生一定的影響，而過大的硅片形變將影響其表面形貌和平面度，從而影響光刻膠的均勻性。通過數(shù)值解和解析解，指出隨著勻膠膜厚的變薄，其受表面形貌的影響將增大；通過數(shù)學(xué)模型和計算機模擬分析了離心轉(zhuǎn)數(shù)等參數(shù)對旋涂性能的影響規(guī)律，并通過實驗分析指出基底不平將直接導(dǎo)致涂膠均勻性變差，從而使集成電路芯片顯影后線條黑白比改變。

 

　　控制和顯示：
 

　　1.非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段；可設(shè)置順序循環(huán)控制；
 

　　2.顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi)；
 

　　3.操作者可隨時隨地自由實現(xiàn)人機交互。
 

　　勻膠勻膠機既然是科研開發(fā)上制備薄膜材料*的方法之一使用者對于該設(shè)備大的期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。通常我們會用均一性和可重復(fù)性來衡量薄膜材料制備的好壞。
 

　　勻膠勻膠機產(chǎn)品特點：
 

　　*采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。
 

　　*5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標(biāo)配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設(shè)置)，可選配10個可編程程序，每個程序下可設(shè)置10個勻膠梯度階段，最多100個階段。
 

　　*內(nèi)置水平校準裝置，限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
 

　　*多重安全保護
 

　　電磁安全開關(guān)，蓋子打開卡盤停止，保證安全；
 

　　蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；
 

　　雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，限度保證實驗人員安全。
 

　　*一機兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
 

　　*不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
 

　　*適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。